氧化鎵材料的優(yōu)勢:
后摩爾時代,具有先天性能優(yōu)勢的寬禁帶半導體材料脫穎而出,將推動電力電子器件提高效率、提高密度、縮小尺寸、減輕重量、降低總成本。而超寬禁帶的禁帶寬度,決定了耐壓值、損耗、功率、頻率,以及使用等方面,超寬禁帶材料相對于硅基和第三代半導體材料都有優(yōu)勢。
第四代半導體比較典型的材料有氧化鎵、金剛石等。據(jù)張杰教授透露,北歐對氧化鎵材料進行了長時間的研究工作。氧化鎵半導體材料,是目前國際上普遍關注和認可的下一代超寬禁帶代表性材料。
目前,對第四代半導體材料的研究和發(fā)展,已經(jīng)進入了國際研究視野。與第三代半導體材料相比,第四代半導體材料在耐壓性能、頻率性能上又有一些新的提升。而且根據(jù)國際上著名出版集團每年對相關研究主題進行論文的學術統(tǒng)計,氧化鎵的研究工作進入科睿唯安2021研究前沿物理類,已經(jīng)得到了研究上的推進。
另外一個氧化鎵材料應用,是利用它的超寬禁帶的屬性制作的光電子器件。也就是主要用于日盲光電器件,即紫外區(qū)域,波長短,禁帶寬。由于日盲紫外技術在紅外紫外雙色制導、導彈識別跟蹤、艦載通信等國防領域具有重大戰(zhàn)略意義。
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