對于濺射類鍍膜：可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，終形成薄膜。氟化鋇濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發(fā)鍍膜的不同點在于濺射速率將成為主要參數(shù)之。邯鄲氟化鋇濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對較差(因為是脈沖濺射)，晶向(外沿)生長的控制也比較般。以pld為例，因素主要有：靶材與基片的晶格匹配程度、鍍膜氛圍(低壓氣體氛圍)、基片溫度、激光器功率、脈沖頻率、濺射時間。

鉍具有一系列的優(yōu)良特性，如比重大、熔點低、凝固時體積冷脹熱縮等，尤其是鉍的無毒與不致癌性使鉍具有很多特殊的用途。氟化鋇鉍廣泛應用于冶金、化工 、電子、宇航 、醫(yī)藥等領域。求購氟化鋇從消費結(jié)構(gòu)來看，各國鉍的消費結(jié)構(gòu)各有側(cè)重，美國鉍的消費主要用于冶金添加劑、低熔點合金、焊料、彈藥筒以及醫(yī)藥化工行業(yè)等；日本和韓國的消費主要以電子行業(yè)為主；中國鉍消費仍舊是以傳統(tǒng)領域為主。

氧化鈧(Sc2O3)是鈧制品中較為重要的產(chǎn)品之一。氟化鋇它的物化性質(zhì)與稀土氧化物(如La2O3,Y2O3和Lu2O3等)相近,故在生產(chǎn)中采用的生產(chǎn)方法極為相似。Sc2O3可生成金屬鈧(Sc)，不同鹽類(ScCl3,ScF3,ScI3,Sc2(C2O4)3等)及多種鈧合金(Al-Sc,Al-Zr-Sc系列)的產(chǎn)物。這些鈧制品具有實用的技術(shù)價值及較好的經(jīng)濟效果。氟化鋇廠家由于Sc2O3具有一些特性,所以在鋁合金、電光源、激光、催化劑、激活劑、陶瓷和宇航等方面已有較好的應用，其發(fā)展前景十分廣闊。

鎵可用于醫(yī)療診斷，例如使用枸櫞酸鎵(67Ga)來診斷肺癌和肝癌等。氟化鋇鎵的合金還可以應用到醫(yī)療器件和醫(yī)用材料中，例如使用鎵合金作為牙齒填充材料，使用“銦鎵合金”制作體溫計等。鎵可用于醫(yī)療診斷，例如使用枸櫞酸鎵(67Ga)來診斷肺癌和肝癌等。氟化鋇廠家鎵的合金還可以應用到醫(yī)療器件和醫(yī)用材料中，例如使用鎵合金作為牙齒填充材料，使用“銦鎵合金”制作體溫計等。

鍺是一種銀白色金屬，主要用于半導體工業(yè)，制造晶體管、二極管和電子高能原料，制造金屬增加合金硬度，還用于醫(yī)藥工業(yè)。氟化鋇鍺及其化合物屬低毒、鍺吸收排泄迅速，經(jīng)肝腎從尿中排出，肝臟和腎臟僅有微量鍺。邯鄲氟化鋇動物實驗給二氧化鍺10ug/g飼料14周，未產(chǎn)生明顯毒性作用，相反可刺激動物生長，當給以1000ug/g的飼料則抑制動物生長，4周后有50%動物死亡，尸檢發(fā)現(xiàn)肺氣腫、肝腫大、腎小管變性和壞死。經(jīng)過調(diào)查半導體工廠和鍺廠，目前尚未鍺及化合物引起職業(yè)中毒。

氧化鎵（β-Ga2O3）作為繼GaN和SiC之后的下一代超寬禁帶半導體材料，其禁帶寬度約為4.8 eV，理論擊穿場強為8 MV/cm，電子遷移率為300 cm2/Vs，因此β-Ga2O3具有4倍于GaN，10倍于SiC以及3444倍于Si的Baliga技術(shù)指標。氟化鋇同時通過熔體法可以獲得低缺陷密度的大尺寸β-Ga2O3襯底，使得β-Ga2O3器件的成本相比于GaN以及SiC器件更低。隨著高鐵、電動汽車以及高壓電網(wǎng)輸電系統(tǒng)的快速發(fā)展，全世界急切的需要具有更高轉(zhuǎn)換效率的高壓大功率電子電力器件。邯鄲氟化鋇β-Ga2O3功率器件在與GaN和SiC相同的耐壓情況下，導通電阻更低、功耗更小、更耐高溫、能夠極大地節(jié)約上述高壓器件工作時的電能損失，因此Ga2O3提供了一種更高效更節(jié)能的選擇。