對(duì)于濺射類鍍膜：可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來(lái)，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過(guò)程，終形成薄膜。鍺粉濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發(fā)鍍膜的不同點(diǎn)在于濺射速率將成為主要參數(shù)之。呂梁鍺粉濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對(duì)較差(因?yàn)槭敲}沖濺射)，晶向(外沿)生長(zhǎng)的控制也比較般。以pld為例，因素主要有：靶材與基片的晶格匹配程度、鍍膜氛圍(低壓氣體氛圍)、基片溫度、激光器功率、脈沖頻率、濺射時(shí)間。

鎵與銦、鉈、錫、鉍、鋅等可在3℃—65℃之間組成一系列低熔合金，用于溫度測(cè)控、儀表中的代汞物、珠定業(yè)作中支撐物、金屬涂層、電子工業(yè)及核工業(yè)的冷卻回路。鍺粉含25%銦的鎵合金為低熔點(diǎn)合金，在16℃時(shí)便熔化，可用于自動(dòng)滅火裝置中。高純鍺粉鎵與銅、鎳、錫、金等可組成冷焊劑，適于難焊接的異型薄壁，金屬間及其與陶瓷間的冷焊接與空洞堵塞。

目前，我國(guó)金屬鎵的消費(fèi)領(lǐng)域包含半導(dǎo)體和光電材料、太陽(yáng)能電池、合金、醫(yī)療器械、磁性資料等，其中半導(dǎo)體行業(yè)已成為鎵最大的消費(fèi)領(lǐng)域，約占總消費(fèi)量的80%。鍺粉隨著鎵下游應(yīng)用行業(yè)的快速發(fā)展，尤其是半導(dǎo)體和太陽(yáng)能電池領(lǐng)域，未來(lái)對(duì)金屬鎵的需求也將穩(wěn)步增長(zhǎng)。鎵的用途用來(lái)制作光學(xué)玻璃、真空管、半導(dǎo)體的原料。裝入石英溫度計(jì)可測(cè)量高溫。加入鋁中可制得易熱處理的合金。鎵和金的合金應(yīng)用在裝飾和鑲牙方面。鍺粉價(jià)格也用來(lái)作有機(jī)合成的催化劑。鎵是銀白色 金屬 。密度5.904克/厘米3。熔點(diǎn)29.78℃。沸點(diǎn)2403℃?；蟽r(jià)2和3。第一電離能5.999電子伏特。凝固點(diǎn)很低。

氟化鎵:白色結(jié)晶粉末。六方晶結(jié)構(gòu)。鍺粉易溶于稀鹽酸。具強(qiáng)腐蝕性，可以腐蝕玻璃、石英，晶體結(jié)構(gòu)為離子晶體。物化性質(zhì):白色結(jié)晶粉末。六方晶結(jié)構(gòu)。密度4.47g/cm3。熔點(diǎn)約1000℃。在氮?dú)饬髦屑s800℃下升華而不分解。微溶于水和烯酸中，能溶于氫氟酸中。由六氟鎵酸銨熱分解制取。三水合物易溶于稀鹽酸。具強(qiáng)腐蝕性，可以腐蝕玻璃、石英。高純鍺粉價(jià)格氟化鎵是一種無(wú)機(jī)化合物。這種白色固體的熔點(diǎn)超過(guò)1000°C，但是在950°C左右就會(huì)升華。它具有FeF3型結(jié)構(gòu)，鎵原子為6配位。

鎵的鹵化物具有較高的活性，可以用于聚合和脫水等工藝，例如使用三氯化鎵(GaCl3)作催化劑生產(chǎn)乙基苯、丙基苯和酮。鍺粉而來(lái)自美國(guó)和丹麥科研人員開發(fā)的一種新的鎳-鎵催化劑，可以用來(lái)轉(zhuǎn)化氫和二氧化碳為甲醇。鍺粉價(jià)格為了提高石油開采的經(jīng)濟(jì)效益，包括中國(guó)在內(nèi)的一些國(guó)家都在研究使用硝酸鎵的新型石油催化劑。

使金屬鎵在室溫或加熱的條件下與硫酸反應(yīng)即可得到硫酸鎵的水溶液。鍺粉或者將新制得的氫氧化鎵Ga(OH)3沉淀溶于2mol/L的硫酸溶液中也可制得硫酸鎵的水溶液。將這種硫酸鎵水溶液在60～70℃的溫度下進(jìn)行濃縮，將所得的濃溶液冷卻，向其中加入乙醇/乙醚混合物，即可制得十八水硫酸鎵Ga2(SO4)3·18H2O的八面體結(jié)晶。呂梁鍺粉反應(yīng)中所用的氫氧化鎵沉淀可用向三價(jià)鎵鹽的水溶液加氨水制得。為了使生成的氫氧化鎵沉淀不致發(fā)生溶解，應(yīng)注意不要使氨水加入過(guò)量。為了易于過(guò)濾，在沉定過(guò)程中可適當(dāng)加熱。