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氧化鎵
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錫林郭勒盟高純金屬鉍粉粉末

2023-11-21
錫林郭勒盟高純金屬鉍粉粉末

氫氧化銦屬于銦的延伸產(chǎn)品,為白色沉淀,加熱至低于150℃時(shí)失水,不溶于冷水、氨水,微溶于NaOH,在濃堿中生成M3[In(OH)6],溶于酸。制法:由銦鹽水溶液中加入氨水或氫氧化堿而得。錫林郭勒盟金屬鉍粉用途:廣泛應(yīng)用于顯示Chemicalbook器玻璃、陶瓷、化學(xué)試劑、低汞和無汞電池的添加劑,以及ITO靶材,如太陽能電池、液晶顯示材料、低汞和無汞堿性電池鋅的添加劑等。金屬鉍粉隨著電池?zé)o汞化的進(jìn)程,用氫氧化銦取代汞做為電池的添加劑已成為今后電池業(yè)的發(fā)展趨勢(shì)。

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真空鍍膜過程非常復(fù)雜,由于鍍膜原理的不同分為很多種類,僅僅因?yàn)槎夹枰哒婵斩榷鴵碛薪y(tǒng)名稱。金屬鉍粉所以對(duì)于不同原理的真空鍍膜,影響均勻性的因素也不盡相同。并且均勻性這個(gè)概念本身也會(huì)隨著鍍膜尺度和薄膜成分而有著不同的意義。金屬鉍粉粉末化學(xué)組分上的均勻性:就是說在薄膜中,化合物的原子組分會(huì)由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻性,SiTiO3薄膜,如果鍍膜過程不科學(xué),那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例,鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分,這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。晶格有序度的均勻性:這決定了薄膜是單晶,多晶,非晶,是真空鍍膜技術(shù)中的熱點(diǎn)問題。

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用途:用于制鍺,也用于電子工業(yè)。用作半導(dǎo)體材料。金屬鉍粉用作金屬鍺和其他鍺化合物的制取原料、制取聚對(duì)苯二甲酸乙二酯樹脂時(shí)的催化劑以及光譜分析和半導(dǎo)體材料。可以制造光學(xué)玻璃熒光粉,可作為催化劑用于石油提煉時(shí)轉(zhuǎn)化、去氫、汽油餾份的調(diào)整、彩色膠卷及聚脂纖維生產(chǎn)。金屬鉍粉粉末不但如此,二氧化鍺還是聚合反應(yīng)的催化劑,含二氧化鍺的玻璃有較高的折射率和色散性能,可作廣角照相機(jī)和顯微鏡鏡頭,隨著技術(shù)的發(fā)展,二氧化鍺被廣泛用于制作高純金屬鍺、鍺化合物、化工催化劑及醫(yī)藥工業(yè),PET樹脂、電子器件等。

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氧化鈧的化學(xué)式為Sc2O3。性質(zhì):白色固體。具有稀土倍半氧化物的立方結(jié)構(gòu)。密度3.864.熔點(diǎn)2403℃±20℃。不溶于水,溶于熱酸中。金屬鉍粉由鈧鹽熱分解制得。可用作半導(dǎo)體鍍層的蒸鍍材料。制做可變波長的固體激光器和高清晰度的電視電子槍、金屬鹵化物燈等。由于Sc2O3產(chǎn)品具有獨(dú)特的物化性質(zhì),故在20世紀(jì)80年代以來,在許多高新技術(shù)和工業(yè)部門中獲得了較好的應(yīng)用發(fā)展。高純金屬鉍粉粉末目前我國及世界的Sc2O3在合金、電光源、催化劑、激活劑和陶瓷等領(lǐng)域的應(yīng)用狀況敘述于后。

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對(duì)于蒸發(fā)鍍膜:一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來,并且沉降在基片表面,通過成膜過程(散點(diǎn)-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長)形成薄膜。金屬鉍粉厚度均勻性主要取決于:1、基片材料與靶材的晶格匹配程度;2、基片表面溫度;3、蒸發(fā)功率,速率;4、真空度;5、鍍膜時(shí)間,厚度大小。組分均勻性:蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證,具體可以調(diào)控的因素同上,但是由于原理所限,對(duì)于非單組分鍍膜,蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。錫林郭勒盟金屬鉍粉晶向均勻性:1、晶格匹配度;2、基片溫度;3、蒸發(fā)速率

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鋁合金中添加微量鈧可以大幅提升鋁合金的強(qiáng)度、塑韌性、耐高溫性能、耐腐蝕性能、焊接性能和抗中子輻照損傷性能。錫林郭勒盟金屬鉍粉已作為結(jié)構(gòu)材料用于航天、航空、核反應(yīng)堆等領(lǐng)域,在艦船、高鐵列車、輕型汽車等領(lǐng)域也有著廣泛的應(yīng)用前景。金屬鉍粉國外其他一些國家已在大型民用飛機(jī)的承重部件用鋁鈧合金材料代替其他材料,以提高飛機(jī)的綜合性能。

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